主要用于成膜领域，通过形成的真空环境实现溶剂的挥发，辅助更好的成膜。

1、一体式高密封腔体设计，腔室泄露率满足真空度要求（与腔室容积及材料放气量相关）；

2、抽速可调，可根据工艺要求调整压力下降曲线；

3、快速抽气能力，根据需求可达10s/100Pa，30s/10Pa;

4、真空腔室压力稳定性≤5％；

5、支持产品规格从实验室级到量产级全尺寸。